蒸鍍儀和濺射儀靶材選擇

關于小型濺射儀 小型蒸鍍產品知識要點

直流磁控濺射儀濺射方式是調動靶材內磁場，使金屬離子轟擊到樣品表面的鍍膜方式。目前只能支持金屬靶材。已經測試過的靶材有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁、以及部分合金(鎳鐵合金)。以下是對一些特殊金屬鍍膜要求

鋁:鍍鋁推薦使用高真空分子泵。

鉻、鎳:靶材厚度 0. 5mm 左右。

小型蒸鍍儀是通過高溫蒸發的方式鍍膜。支持蒸鍍金屬和有機物。目前已測試的金屬有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁，有機物(石蠟)。蒸鍍儀增加膜厚監測需要用到帶有屏蔽溫度的陶瓷坩堝(原因是高溫會影響膜厚儀的測試結果)。以下是對一些特殊金屬鍍膜要求。鋁:鍍鋁需要用到陶瓷坩堝。是因為鋁高溫熔化時會滲透進鎢舟，發生脆性相，鎢舟容易斷裂。

鎳:'熔點較高(1453°)，需要用鎳絲纏繞鎢棒進行蒸發。同樣會滲透進鎢棒內，使鎢棒斷裂

鉻:熔點較高(1850左右°)，需要用到鉻鎢棒進行蒸發鍍膜。