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    磁控濺射儀

    產品簡介

    KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

    產品型號:
    更新時間:2024-03-27
    廠商性質:生產廠家
    訪問量:15563
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    品牌助藍科技濺射氣體詳詢
    樣品臺尺寸詳詢mm控制方式詳詢
    樣品倉尺寸詳詢mm靶材尺寸詳詢mm
    靶材材質詳詢價格區間面議
    產地類別國產應用領域電子/電池

    KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

         目前公司已研發生產產品十多個系列幾十款產品,產品囊括實驗電爐   CVD供氣系統   等離子清洗機   小型離子濺射儀   磁控濺射儀 石英管真空封口   半導體檢測等。 主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

         公司與國內高校,科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室,相關領域的教授、高級工程師、博士參與公司產品的研究和開發。我們秉承公司的發展理念,依靠嚴謹的技術研發能力,科學合理的生產工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。



    控制方式

    7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

    濺射電源

    40KHz濺射電源

    鍍膜功能

    0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

    大功率

    ≤1000W

    大輸出電壓電流

    電壓≤1000V  電流≤1A

    極限真空

    機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

    濺射真空

    ≤30Pa

    擋板類型

    電控

    真空腔室

    石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

    樣品臺

    可旋轉φ62  (大可安裝φ50基底)

    樣品臺轉速

    8轉/分鐘

    樣品濺射源調節距離

    40-105mm

    真空測量

    皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

    預留真空接口

    KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口





     

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