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    金屬磁控濺射儀

    產(chǎn)品簡介

    金屬磁控濺射儀, 外形小巧 ,功率電流大小可調(diào),觸摸屏控制,有工藝儲存功能,外配水冷機(jī)可長時間工作。

    產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
    更新時間:2024-03-27
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問量:2846
    詳細(xì)介紹在線留言
    品牌鄭科探濺射氣體根據(jù)需求通氣
    樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
    樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
    靶材材質(zhì)金 鉑 銅 銀 等價格區(qū)間面議
    產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域綜合

    屬磁控濺射儀這是一種易于使用的基本儀器,用于SEM試樣的鍍金。它具有全可變電流控制、帶暫停選項(xiàng)的數(shù)字過程定時器、可變高度試樣臺、鉸鏈頂板和 O 形圈密封真空室。該控制裝置允許獨(dú)立于氣體壓力設(shè)置濺射電流,氣體壓力由手動泄漏閥單獨(dú)調(diào)節(jié)。覆蓋面和晶粒尺寸針對任何試樣進(jìn)行了優(yōu)化,徑目標(biāo)的冷磁控管型磁頭能夠以最小的加熱實(shí)現(xiàn)高效的濺射。鍍膜時間由帶有數(shù)字讀數(shù)的定時器設(shè)置并存儲在存儲器中。真空狀態(tài)和濺射電流顯示在C觸摸屏上。

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    屬磁控濺射儀廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);

    控制方式

    7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制

    濺射電源

    直流濺射電源

    鍍膜功能

    0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

    功率

    ≤1000W

    輸出電壓電流

    電壓≤1000V  電流≤1A

    真空

    機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

    濺射真空

    ≤30Pa

    擋板類型

    電控

    真空腔室

    石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

    樣品臺

    可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

    樣品臺轉(zhuǎn)速

    8轉(zhuǎn)/分鐘

    樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

    40-105mm

    真空測量

    皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

    預(yù)留真空接口

    KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口




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