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    直流磁控濺射儀

    產品簡介

    直流磁控濺射儀,產品為臺式磁控濺射鍍膜機,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。

    產品型號:KT-Z1650PVD
    更新時間:2024-03-27
    廠商性質:生產廠家
    訪問量:1742
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    品牌鄭科探濺射氣體氬氣
    樣品臺尺寸50mm樣品倉尺寸160mm
    靶材尺寸50mm靶材材質根據需求
    價格區間面議產地類別國產
    應用領域綜合

    直流磁控濺射儀本儀器主要適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍膜導電膜(金膜),儀器操作簡單方便,配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器離子濺射儀的工作原理是在一個較低真空的腔體內,將超過幾百伏特的電壓加載在負電極和正電極之間,使得輝光放電產生,使得正離子在電場的作用下對靶電極(負極)的轟擊加速,造成靶中原子濺射,使得一層簿膜在樣品上形成。10電子伏特為濺射原子的平均能量,因此會有非常大的熱量產生,為了使樣品不被灼傷,需要對被鍍材料特性以及是否需要采取特殊的防護方法格外注意。

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    直流磁控濺射儀技術參數;

    控制方式

    7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

    濺射電源

    直流濺射電源

    鍍膜功能

    0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

    功率

    ≤1000W

    輸出電壓電流

    電壓≤1000V  電流≤1A

    真空

    機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

    濺射真空

    ≤30Pa

    擋板類型

    電控

    真空腔室

    石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

    樣品臺

    可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

    樣品臺轉速

    8轉/分鐘

    樣品濺射源調節距離

    40-105mm

    真空測量

    皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

    預留真空接口

    KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口









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