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    科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備

    產品簡介

    科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備,觸摸屏控制,可調節功率和蒸鍍時間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間,保護樣品

    產品型號:KT-Z1650CVD
    更新時間:2024-03-27
    廠商性質:生產廠家
    訪問量:1631
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    品牌鄭科探產地類別國產
    應用領域綜合

    科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備,小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。
    通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發鍍膜,熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、AgAlCuCr、Au、Ni等材料。

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    637858771737832260197.png   原樣品沒有鍍膜                       637858771732996198687.png  115A 100秒 機械泵

    637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分鐘    637858771732684194803.png  115A 120秒 分子泵抽20分鐘


    真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

    科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備KT-Z1650CVD

    控制方式

    7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

    加熱方式

    數字式功率調整器

    鍍膜功能

    0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

    最大功率

    1200W

    最大輸出電壓電流

    電壓≤12V  電流≤120A

    真空度

    機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

    擋板類型

    電控

    真空腔室

    不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

    樣品臺

    可旋轉φ62  (最大可安裝φ50基底)

    樣品臺轉速

    8/分鐘

    樣品蒸發源調節距離

    70-140mm

    蒸發溫度調節

    1800

    支持蒸發坩堝類型

    鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

    預留真空接口

    KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進氣口

    可選配擴展

    機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

    數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

    分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa







    實驗室高溫蒸鍍儀






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